Fuji - LTO Ultrium 5¹

Bei der 5. Generation der Fujifilm LTO Ultrium-Bändern kommen das zukunftsweisende NANOCUBIC-Dünnbeschichtungsverfahren von Fujifilm mit feineren Metallpartikeln und die Nanodispersionstechnologie mit einem modernen Bindersystem zum Einsatz, mit denen eine höhere Speicherdichte erreicht wird. Darüber hinaus hat Fujifilm eine moderne Spulenkonstruktion eingeführt, die sich nicht nur durch eine hohe Bandlaufstabilität im Laufwerk, sondern auch durch eine hohe Archivierungsbeständigkeit auszeichnet. Dieses Merkmal ist für die Nutzer von besonderer Bedeutung, weil das Band mit zunehmender Länge einen steigenden Druck auf den Wickelkern ausüben kann, was ein potentielles Deformationsrisiko mit sich bringt. Der Aufbau der Wickelkernstruktur reduziert eine unerwartete Beeinträchtigung der Bandcharakteristiken, wie beispielsweise die Beschädigung der Bandkante, während die nun sehr glatte, gleichmäßigere Magnetschicht eine beträchtliche Verringerung an Oberflächenfehlern sicherstellt.